【摘 要】
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采用Ar＋离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar＋离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar＋离子束刻蚀试验进行比对。结
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采用Ar＋离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar＋离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响,并与Ar＋离子束刻蚀试验进行比对。结果表明,以30°角入射,随溅射时间的增加,能量为0.5keV的Ar＋离子束较1.0keV对U薄膜表面粗糙度趋于减小,表面愈光滑,溅射深度仅限于纳米级,而与金属Mo的刻蚀效果相比与之相反。Ar＋离子束溅射对材料表面具有超精细抛光的效果,辅之于离子束微米级刻蚀减薄,将有助于U薄膜表面精细加工。
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