单晶硅掺杂类型对化学镀Ni -P膜的影响

来源 :城市道桥与防洪 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dustfly

【摘要】

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本文采用化学镀的方法分别在P型、N型Si(100)表面制备了Ni -P膜,通过扫描电镜(SEM)及电子能谱仪(EDS)分析考察了同种制备条件下,在不同基底上镀膜的表面形貌和不同基底对镀层

【作者】

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麻华丽张新月杜银霄陈雷明茹意张锐曾凡光刘波刘凯梁浩

【机构】

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郑州航空工业管理学院数理系,河南郑州,450015河南大学物理与电子学院,河南开封,475004;

【出处】

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城市道桥与防洪

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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化学镀 N型Si P型Si Ni -P膜

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本文采用化学镀的方法分别在P型、N型Si(100)表面制备了Ni -P膜,通过扫描电镜(SEM)及电子能谱仪(EDS)分析考察了同种制备条件下,在不同基底上镀膜的表面形貌和不同基底对镀层组分的影响；并用原子力显微镜(AFM)对不同基底上镀膜的平整度进行了研究.结果发现两种基底上的镀膜形貌、元素含量及镀膜平整度明显不同,以P型Si(100)作为基底时,膜层颗粒度及平整度较好.

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