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论述了光刻胶在场发射显示器制备中的应用，采用丝网印刷技术将光刻胶转移到镀有金属薄膜的玻璃基片上，利用紫外光对其进行光刻，通过视频显微镜对每一步实验过程进行观察和测试，以确定最佳实验工艺。结果表明，利用200目的丝网将光刻胶印刷至基片上．在85℃下保温60分钟，曝光55s，采用1％的25℃碳酸纳显影60s，110℃下固膜30分钟后．蚀刻出的金属电极精细整齐，为制备FED精细电极奠定了基础。