Composition and Microstructure of Magnetron Sputtering Deposited Ti-containing Amorphous Carbon Film

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：edwardeternity

【摘要】

：

包含 Ti 碳膜被使用磁控管 sputteringdeposition.The 作文扔，碳膜的微观结构被联合卢 backscattering 的技术详细描绘 spectrometry (RBS ) ， X 光检查光电子光谱学(XPS ) ， X

【作者】

：

Jun DU Ping ZHANG

【机构】

：

NationalKeyLaboratoryforRemanufacturing

【出处】

：

材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

：

2007年4期

【关键词】

：

磁控管溅射沉积物碳薄膜碳结合物构造 X射线衍射透射电子显微镜术 Magnetron sputtering deposition Carbon film

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包含 Ti 碳膜被使用磁控管 sputteringdeposition.The 作文扔，碳膜的微观结构被联合卢 backscattering 的技术详细描绘 spectrometry (RBS ) ， X 光检查光电子光谱学(XPS ) ， X 光检查衍射(XRD ) 和传播电子显微镜学(TEM ) 。碳膜在%包含 Ti 18 ，这被发现；在 Ti 加入以后，这些电影由碳化钛组成； C1speak 出现在 283.4 eV 和它能被划分成 283.29 和 284.55 eV ，分别地，代表 sp2

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