紫外线厚胶光刻技术研究及应用

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【摘要】

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紫外线厚胶光刻技术已广泛应用于3D微机械结构的制作.本文选用AZ4620和SU-8两种光刻厚胶,采用德国卡尔*休斯公司的MA-6双面对准光刻机,对紫外线光刻工艺条件进行了对比研究,

【作者】

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李雯谭智敏薛昕刘理天

【机构】

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清华大学微电子学研究所

【出处】

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微纳电子技术

【发表日期】

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2003年7期

【关键词】

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紫外线厚胶光刻技术 SU-8 AZ4620 双面对准光刻机紫外线光刻工艺胶结构图形 UV lithographySU8AZ46203D MEMS

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紫外线厚胶光刻技术已广泛应用于3D微机械结构的制作.本文选用AZ4620和SU-8两种光刻厚胶,采用德国卡尔*休斯公司的MA-6双面对准光刻机,对紫外线光刻工艺条件进行了对比研究,结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,胶结构图形的侧墙较陡直,能够实现较大的深宽比,为复杂结构的三维微机械器件的制作提供了保证.

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