【摘 要】
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传统的电真空辐射源向太赫兹频段发展进程中电子光学系统遇到诸多困难,而带状电子光学系统能够有效解决部分困难.文中采用粒子模拟软件分析了不同阴极面和聚焦极结构对形成带
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传统的电真空辐射源向太赫兹频段发展进程中电子光学系统遇到诸多困难,而带状电子光学系统能够有效解决部分困难.文中采用粒子模拟软件分析了不同阴极面和聚焦极结构对形成带状注的影响,通过仿真计算,对所需要的双阳极带状电子光学系统进行了设计,分析了电子枪的聚焦极结构尺寸对电子注的形状及其性能参量的影响,最终在0.5T均匀磁场,工作电压为15 kV,发射密度10 A/cm2的情况下,获得带状电子注电流密度为50 A/cm2,宽高比为11:1,并且在20 mm电子通道内脉动较小,流通率达到100％.
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