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为了确定添加氦气对微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）金刚石膜的影响，采用发射光谱法（OES）在线诊断了 CH4-H2-He 等离子体的发射光谱特性，研究了 He 对等离子体内基团空间分布的影响；并利用扫描电子显微镜（SEM）和拉曼（Raman）光谱对不同 He 体积分数下沉积出的金刚石膜进行了表征。结果表明：随着 He 体积分数的增加，等离子体内 Hα，Hβ，Hγ，CH 和 C2基团的谱线强度均呈上升趋势，其中 Hα基团的谱线强度增加最大。光谱空间诊断发现 He 的加入导致等离子体中各基团的空间分布均