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Fe/Cr磁性多层膜的制备及其磁电阻测定
Fe/Cr磁性多层膜的制备及其磁电阻测定
来源 :物理实验 | 被引量 : 0次 | 上传用户:linbingzhao123
【摘 要】
:
利用磁控溅射制备了不同非磁性层厚度的Fe/Cr多层磁性薄膜系统,利用四探针法测定了该多层膜系统在不同磁场下磁电阻效应,用饱和场法给予佐证,溅射制备的多层膜系统饱和场明显
【作 者】
:
令狐荣锋
梁冰青
周勋
王荫君
【机 构】
:
贵州师范大学,中国科学院,贵州师范大学
【出 处】
:
物理实验
【发表日期】
:
2005年6期
【关键词】
:
磁控溅射
四探针法
铁磁-反铁磁耦合
magnetron sputtering
four-probe method
ferromagnetic-antife
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利用磁控溅射制备了不同非磁性层厚度的Fe/Cr多层磁性薄膜系统,利用四探针法测定了该多层膜系统在不同磁场下磁电阻效应,用饱和场法给予佐证,溅射制备的多层膜系统饱和场明显地随Cr层厚度增加而衰减振荡,得出了Fe/Cr多层膜的铁磁-反铁磁耦合的交换耦合强度随非磁性层厚度变化的物理规律.
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