【摘 要】
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本文用椭偏光法结合阳极氧化剥层技术研究了(31)~P离子注入硅的损伤分布及在红外辐照快速退火中的再结晶机理。结果表明,对于1OOkeV,5×10_(14)cm~(-2)(31)~P离子注入硅,注入
【机 构】
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西安交通大学电子工程系,西安交通大学电子工程系,西安交通大学电子工程系
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本文用椭偏光法结合阳极氧化剥层技术研究了(31)~P离子注入硅的损伤分布及在红外辐照快速退火中的再结晶机理。结果表明,对于1OOkeV,5×10_(14)cm~(-2)(31)~P离子注入硅,注入区形成了970(?)的隐埋非晶层。将此样品在1100℃源温下辐照30秒,非晶层从与单晶衬底的交界面处向表面固相外延再结晶240(?),外延速率为8(?)/秒。
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