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辉光放电质谱法测定高纯铪中的痕量元素
辉光放电质谱法测定高纯铪中的痕量元素
来源 :福建分析测试 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gang_zai1314
【摘 要】
:
采用辉光放电质谱法,直接测定高纯Hf中的痕量元素。通过对仪器调谐,优化了工作参数,并对测试过程中产生的多原子离子干扰进行仔细考察,得到较为理想的测试结果。当元素含量在
【作 者】
:
黄瑾
郑清洪
【机 构】
:
中国科学院福建物质结构研究所,福建农林大学材料工程学院
【出 处】
:
福建分析测试
【发表日期】
:
2016年3期
【关键词】
:
辉光放电质谱法
高纯铪
多原子离子干扰
glow discharge mass spectrometry
purity Hf
the polyatomic
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采用辉光放电质谱法,直接测定高纯Hf中的痕量元素。通过对仪器调谐,优化了工作参数,并对测试过程中产生的多原子离子干扰进行仔细考察,得到较为理想的测试结果。当元素含量在ug/g水平时,测量的相对标准偏差(RSD)小于10%。
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