<正> 一、前言 超微粒干版性能的优劣,直接影响着半导体工艺中掩模版的质量。从掩模的制造来看,要求超微粒感光干版具有2000条线/毫米以上的高分辨能力,版面是超平的,胶膜高度清洁;而从自动制版技术的要求来讲,又希望这种超微粒干版的光敏特性比较高。 众所周知,要使超微粒干版的分辨本领高,除要求感光乳剂中的卤化银颗粒精细外,要达到图形线条锐度高,必须保证感光干版的反差特性极好。要满足这一点,超微粒干版的灰雾密度必须极小。 为此,要获得高质量的超微粒干版,当然选取一个良好的配方和理想的原材料是很重要的。但实验表明,感光乳剂制造工艺的设计和控制是否合理,也是不可忽视的因素。 这里仅根据我们在超微粒感光乳剂的制造中遇到的问题和认识,加以粗略地讨论。 二、关于感光乳胶的光敏度 根据图形发生器自动制版的特点,要求超微粒干版的光敏特性较高。从我所的图形发生器制版情况来看,柯达版的光敏度尚不能满足要求,另外,版的耗用量也很大,这就要求必须解决干版的光敏度问题。 1.感光乳剂的组分和光敏度的关系