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采用ZrCl4-CH4-H2-Ar体系在C/C材料基体上进行常压化学气相沉积（APCVD）制备碳化锆（ZrC）涂层。通过X射线衍射技术（XRD）和扫描电镜（SEM）对不同H2浓度下制备的ZrC涂层进行分析。对H2在沉积过程中的作用机制进行了讨论。结果表明：H2浓度对涂层的相组成、晶体的择优取向和结构形态有重要影响;无H2或H2浓度较低时,涂层含有大量的热解碳,由ZrC和碳两相组成,涂层呈多孔颗粒状;当H2浓度（体积分数）增加到30%以上时,涂层的相成分变为单一ZrC相;当H2的浓度增加到90%时,ZrC晶