【摘 要】
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本文提出了远紫外曝光的评价问题,略述了各种商业上可用的光致抗蚀剂的敏感度,叙述了不同的远紫外光源的的优缺点,讨论了产生准直光束的光学系统,强调了在达到重复结果中,曝
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本文提出了远紫外曝光的评价问题,略述了各种商业上可用的光致抗蚀剂的敏感度,叙述了不同的远紫外光源的的优缺点,讨论了产生准直光束的光学系统,强调了在达到重复结果中,曝光强度的测量和控制的重要性。最后,叙述两种曝光技术:①对准曝光,②无“掩模”曝光。
This paper presents the evaluation of far UV exposure, outlines the sensitivity of various commercially available photoresists, describes the advantages and disadvantages of different far UV light sources, discusses the optical system that produces a collimated light beam, The importance of measurement and control of exposure intensity is emphasized in achieving repeat results. Finally, two exposure techniques are described: ① Aligning the exposure, ② No “mask” exposure.
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