【摘 要】
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用努普(Knoop)压痕法测量了沉积在普通玻璃上的 ITO,SnO_2和非晶硅薄膜的硬度。在0.245N 负荷下测得它们的硬度分别是7232、7987和4929MPa。这些薄膜材料的硬度取决于薄膜制
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院上海硅酸盐研究所
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用努普(Knoop)压痕法测量了沉积在普通玻璃上的 ITO,SnO_2和非晶硅薄膜的硬度。在0.245N 负荷下测得它们的硬度分别是7232、7987和4929MPa。这些薄膜材料的硬度取决于薄膜制备方法和制备时的工艺条件,同时也与测量方法有关。不同衬底温度时沉积的非晶硅薄膜,其硬度随温度降低而减小,这与非晶硅薄膜中所含的氢的多少有关。
The hardness of ITO, SnO 2 and amorphous silicon films deposited on ordinary glass was measured by Knoop indentation method. Their hardness was found to be 7232, 7987 and 4929 MPa respectively at 0.245 N load. The hardness of these thin film materials depends on the film preparation method and preparation process conditions, but also with the measurement method. The amorphous silicon films deposited at different substrate temperatures decrease in hardness as the temperature decreases, which is related to the amount of hydrogen contained in amorphous silicon films.
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