【摘 要】
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研究了制备闪耀凹面光栅的离子束刻蚀工艺，提出了用“解析分区法”设计闪耀凹面光栅的衍射效率。该方法能通过确定离子束入射角，在实验前定量给出平行离子束刻蚀后光栅衍射效率
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,中国科学院大学
【基金项目】
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国家863高技术研究发展计划资助项目(No.2010AA1221091001);国家重大科学仪器设备开发专项资金资助项目(No.2011YQ120023);中国科学院重大科研装备研制项目(No.ZBYZ2008-1,No.YZ201005);吉林省科技发展计划资助项目(No.20070523,20086013)
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研究了制备闪耀凹面光栅的离子束刻蚀工艺，提出了用“解析分区法”设计闪耀凹面光栅的衍射效率。该方法能通过确定离子束入射角，在实验前定量给出平行离子束刻蚀后光栅衍射效率的设计结果。经过理论设计计算出所需波长衍射效率较高的凹面闪耀光栅中心闪耀角，利用刻蚀模拟软件BLAZING计算出离子束刻蚀参数及光刻胶掩模参数；以计算结果为依据，利用全息一离子束刻蚀工艺制作出尺寸为45mm×40mm°，曲率半径为224mm的凹面闪耀光栅，其中心闪耀角约为9．21°，峰值衍射效率为54．8％@300
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