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在二维材料(TDM)制备领域,从六方氮化硼(h-BN)高效剥离制备氮化硼纳米片(BNNS)仍是一项具有挑战性的工作。本文提出了一种在醇水溶液中辐射诱导还原-剥离(Radiation-induced reductionexfoliation,RIRE)h-BN的新方法。该方法的核心思想是利用插层在h-BN晶体层间的Ni2+离子的原位辐射还原生成Ni纳米粒子过程中产生的体积膨胀效应,破坏h-BN晶体的层间相互作用,从而实现常温常压下,一步从h-BN上剥离出负载着约20 nm镍纳米粒子(NiNP),200 nm