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超大规模集成电路(VLSI)线宽不断缩小促进了光刻技术的发展和分辩率的提高,缩短光波长和改进掩模是提高分辨率的重要途径.探索采用X-射线光刻技术时,用金刚石薄膜作为掩模基膜的研究现状与发展方向.金刚石薄膜因其具有优异的机械、光学和热学性能,已成为新一代掩模基膜材料的理想候选材料.介绍了金刚石薄膜用作掩模基膜材料上取得的实验成果,面临的问题和可能解决的途径.