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期刊论文
功率器件硼基区注入工艺研究
功率器件硼基区注入工艺研究
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:foxgp123
【摘 要】
:
随着功率双极集成电路在军民两用的各种电源管理、功率驱动等领域的广泛应用,以及集成电路生产规模的进一步扩大,对参数一致性、重复性、均匀性的要求越来越高;文章重点介绍功率
【作 者】
:
曾莉
税国华
李杰
【机 构】
:
模拟集成电路国家重点实验室、中国电子科技集团公司第二十四研究所
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2007年1期
【关键词】
:
功率器件
离子注入
硼基区
集成电路工艺
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随着功率双极集成电路在军民两用的各种电源管理、功率驱动等领域的广泛应用,以及集成电路生产规模的进一步扩大,对参数一致性、重复性、均匀性的要求越来越高;文章重点介绍功率器件硼基区注入工艺,对工艺原理和工艺方案进行了详细阐述;并给出了工艺结果以及在产品中的应用情况。
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