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讲述了参观Ｓｅｍｉｃｏｎ／ｗｅｓｔ９４′展览会及考察美国和西德的５个公司、１所大学所了解到的投影光刻技术、电子束曝光技术、透镜面形测试技术的发展。
国际微电子专用关键设备的现状和发展趋势（考察报告）
【摘 要】
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讲述了参观Ｓｅｍｉｃｏｎ／ｗｅｓｔ９４′展览会及考察美国和西德的５个公司、１所大学所了解到的投影光刻技术、电子束曝光技术、透镜面形测试技术的发展。
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,中国科学院电工研究所
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1994年5期
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