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采用光致发光（Photoluminescence，PL）谱的测量，研究了10^13-10^17cm^-2。的O和C两种离子注入和退火对非有意掺杂的n型GaN黄光发射（Yellow luminescence，YL）的影响，注入后的样品在流动N2的保护下进行退火，退火温度950℃，退火时间30min。对比相同剂量下N离子注入GaN黄光发射，结果表明O、C两种离子的注入在GaN中分别引入了与黄光发射相关的不同的深能级中心，当C离子注入剂量高达10^17cm^-2时，能引起黄光发射的C相关的深能级中心显著增多。