衬底温度对射频磁控溅射制备Ti-Ni合金薄膜的影响

来源 :第四届全国非晶合金及其复合材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:inasy
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采用射频磁控溅射技术在石英玻璃上沉积TiNi薄膜。利用XRD、SEM、EDS、台阶仪和纳米压痕仪、划痕仪等测试方法研究了溅射态原位加热对TiNi薄膜的组织结构、化学成分及力学性能的影响。结果表明,溅射态原位加热至500℃可直接获得具有晶化织构的TiNi薄膜,其弹性模量为64.9 GPa,变形能效率η为36.7%,薄膜与基体的临界结合力为35.26N。
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