【摘 要】
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在单晶Si基片用离子束溅射沉积法制备了1-100 nm的Al2O3纳米薄膜.利用原子力显微镜分析和研究了不同厚度Al2O3纳米薄膜的表面形貌,并用X射线光电子能谱（XPS）仪和X射线衍射仪分
【机 构】
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河北工业大学材料科学与工程学院,河北省安装工程公司第二分公司,扎努西电气机械天津压缩机有限公司
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在单晶Si基片用离子束溅射沉积法制备了1-100 nm的Al2O3纳米薄膜.利用原子力显微镜分析和研究了不同厚度Al2O3纳米薄膜的表面形貌,并用X射线光电子能谱（XPS）仪和X射线衍射仪分别对100 nm的Al2O3纳米薄膜表面结构和成分进行了表征,结果表明：薄膜厚度在1-50 nm范围时,颗粒形态随着薄膜厚度的变化逐渐变化,由二维生长的胞状渐变为多个颗粒聚成的球状.当薄膜厚度大于50 nm时,小的球形颗粒聚成大球形颗粒,并且球形颗粒生长状态为三维生长.随着薄膜厚度的增加表面粗糙度先增加后减小,当薄膜厚
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