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介绍了一种适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术，采用图形反转胶和正型光刻胶，选择合适的光刻工艺形成了光刻胶“倒梯形”的剖面结构，可以成功剥离与胶层厚度相同的膜层，厚度可达13μm。同时对一些技术机理和关键工艺条件进行了讨论。
适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术
【摘 要】
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介绍了一种适用于厚膜剥离的图形反转双层胶光刻技术，采用图形反转胶和正型光刻胶，选择合适的光刻工艺形成了光刻胶“倒梯形”的剖面结构，可以成功剥离与胶层厚度相同的膜层，厚度
【机 构】
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华北光电技术研究所
【出 处】
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激光与红外
【发表日期】
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2010年3期
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