快速光亮镀铜

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研究高效率、高整平性和高光洁度的光亮镀铜工艺,实现防护装饰性电镀的连续化和自动化,以满足镀厚铜和电铸的需要,已成为电镀生产的迫切要求。光亮铜层可以在氰化物、焦磷酸盐、硫酸和氟硼酸等电解液 Researching the bright copper plating process with high efficiency, high leveling and high finish to realize the continuous and automatic protection of decorative plating to meet the needs of thick copper plating and electroforming has become an urgent requirement of electroplating production. Bright copper layer can be cyanide, pyrophosphate, sulfuric acid and fluoroboric acid electrolyte
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