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电子束重复增量扫描曝光方式的反应机理研究
电子束重复增量扫描曝光方式的反应机理研究
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:urtracy2009
【摘 要】
:
从高分子辐射化学的角度分析了电子束曝光的实际反应机理,推导得出曝光辐射剂量与辐射降解程度间的关系,提出了重复增量扫描方式的电子束微三维加工方法.通过在SDS-3型电子束
【作 者】
:
卢文娟
张玉林
孔祥东
郝惠娟
【机 构】
:
山东大学
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
2006年5期
【关键词】
:
电子束光刻
微三维加工
辐射降解
聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)
electron beam lithography
three-dimensional micr
【基金项目】
:
国家自然科学基金重大研究计划资助项目(90307003),国家自然科学基金资助项目(10572078),山东省自然科学基金资助项目(Y2003G03),山东省科技攻关计划基金资助项目(022090105)
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从高分子辐射化学的角度分析了电子束曝光的实际反应机理,推导得出曝光辐射剂量与辐射降解程度间的关系,提出了重复增量扫描方式的电子束微三维加工方法.通过在SDS-3型电子束曝光机上对正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的三维结构,验证了该方法的可行性.
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