沉积温度对渗钽层组织与耐蚀性能的影响

来源 :中国腐蚀与防护学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hordark
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钽是一个负电性强的金属,其平衡电位相当低(E_(Ta/Ta_2O_3)=-0.81V),无论是在氧化性的还是在还原性的含氯化物的酸中(即使氧含量很小)都能生成致密的氧化膜(Ta_2O_5),这种膜的粘着性能好,牢固且稳定,在低于260℃的温度下有很好的保护性。由于钽的提炼和加工困难,价格昂贵。因此,研究和开发渗钽技术有它重要的实际意义。 Tantalum is a negatively charged metal with a relatively low equilibrium potential (E Ta Ta 2 O 3 = -0.81V), whether in oxidizing or reducing reducing acid chloride (even if the oxygen content is small ) Can produce a dense oxide film (Ta_2O_5). This film has good adhesion, firmness and stability, and is well protected at temperatures below 260 ° C. As tantalum refining and processing difficulties, expensive. Therefore, research and development of tantalum penetration technology has its important practical significance.
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