【摘 要】
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采用循环伏安、方波伏安、计时电位及线性扫描伏安法研究了500℃时Cu（Ⅰ）在LiCl-KCl熔盐体系中石墨电极和钼电极上的电化学行为,并且研究了不同CuCl浓度下铜的沉积电位。结果显
【机 构】
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东北大学材料与冶金学院,上海大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51174055)
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采用循环伏安、方波伏安、计时电位及线性扫描伏安法研究了500℃时Cu（Ⅰ）在LiCl-KCl熔盐体系中石墨电极和钼电极上的电化学行为,并且研究了不同CuCl浓度下铜的沉积电位。结果显示,铜离子在熔盐中的还原过程分两步进行,分别在-1.05 V和-1.55 V处依次还原,即Cu（Ⅱ）→Cu（Ⅰ）和Cu（Ⅰ）→Cu（0）。通过循环伏安及计时电位测试,均得出Cu（Ⅰ）在LiCl-KCl熔盐中的阴极还原过程为受扩散控制的准可逆过程,扩散系数分别为1.79×10^-5 cm^2/s和1.26×1
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