Electroless deposition of Cu on multiwalled carbon nanotubes

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铜被无电的免职在多围的碳 nanotubes (MWNT ) 并且在 MWNT 内的表面上扔了。同样准备的 Cu-MWNT 合成材料被 X 光检查描绘了衍射计(XRD ) ,传播电子显微镜学(TEM ) ,和电气化学的测量。XRD 分析证明 Cu 是一以脸为中心立方(fcc ) 结构。Cu 的平均尺寸被 Scherrer 计算“从 XRD 的 s 公式数据,和它是 11 nm。MWNT 的表面上的 Cu 谷物与大约运用的 30-60 的尺寸是一致的 TEMrevealed。Theelectrochemic
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