【摘 要】
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高纯金靶材广泛应用于电子信息行业,靶材产品对其所含杂质元素含量有着极高要求,杂质元素含量偏高将影响其使用性能.对辉光放电质谱法(GDMS)放电电流、放电气体(氢气)流量和
【机 构】
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国标(北京)检验认证有限公司,北京101400;北京环标科创环境科技发展有限责任公司,北京100029
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高纯金靶材广泛应用于电子信息行业,靶材产品对其所含杂质元素含量有着极高要求,杂质元素含量偏高将影响其使用性能.对辉光放电质谱法(GDMS)放电电流、放电气体(氢气)流量和样品预溅射时间进行了优化,以丰度高、无干扰或干扰小为原则来选择待测同位素,同时通过选择分辨率来克服可能存在的质谱干扰,建立了GDMS测定高纯金靶材中Al、Mg、Fe等42种元素的分析方法.采用实验方法对高纯金靶材样品中42种杂质元素进行了测定,结果表明,对于质量分数大于100 μg/kg杂质元素,测定结果的相对标准偏差(RSD)均小于10％,其余含量元素测定结果的RSD基本小于46％.由于缺乏高纯金标准物质,对含量相对较高的元素如Ca、Fe、Pd、Ag、Pt、Cr、Cu和Ni元素采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)进行方法对照试验,实验方法与ICP-MS的测定结果基本保持一致.
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