【摘 要】
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针对目前石墨烯类器件核心敏感结质量不高的现状,基于石墨烯和氮化硼的转移工艺设计了一种高质量的氮化硼/石墨烯/氮化硼异质结制备工艺.本工艺应用垂直气象干燥法、热合成以
【机 构】
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中北大学仪器与电子学院,中北大学微系统集成研究中心,中北大学电子测试技术国家重点实验室
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针对目前石墨烯类器件核心敏感结质量不高的现状,基于石墨烯和氮化硼的转移工艺设计了一种高质量的氮化硼/石墨烯/氮化硼异质结制备工艺.本工艺应用垂直气象干燥法、热合成以及纳米薄膜图形化等单步工艺优化了石墨烯和氮化硼的湿法转移技术,减少了转移过程中外部环境对石墨烯的影响,最终达到提高转移质量的目的.SEM扫描图显示异质结制备成功,拉曼光谱仪的测试结果表明氮化硼/石墨烯/氮化硼异质结的G峰位置为1 586cm-1,2D峰位置为2 683cm-1,强度比为5.34,异质结具有较高的质量.
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