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利用静电贴膜技术在MCP输入面制备了4 nm厚Al2O3非晶态电子透射膜,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染.探讨了贴膜与气体辉光放电的关系,测量了MCP电子透射膜的电子透过特性和离子阻挡特性.实验表明,4 nm厚Al2O3非晶态电子透射膜能有效地透过电子,阻止反馈离子.
无碳污染微通道板电子透射膜的工作特性
【摘 要】
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利用静电贴膜技术在MCP输入面制备了4 nm厚Al2O3非晶态电子透射膜,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染.探讨了贴膜与气体辉光放电的关系,测量了MCP电子透射膜的电子透过特性
【机 构】
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烟台师范学院物理系
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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2003年5期
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