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采用光ＣＶＤ法制备了良好的ＳｉＯ２薄膜，为半导体器件及传感器表面修饰提供了一条新型可行的途径。
光CVD—SiO2薄膜的性能及其应用
【摘 要】
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采用光ＣＶＤ法制备了良好的ＳｉＯ２薄膜，为半导体器件及传感器表面修饰提供了一条新型可行的途径。
【机 构】
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南昌大学高新技术研究所,南昌大学应用物理所,江西师范大学
【出 处】
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南昌大学学报(理科版)
【发表日期】
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1996年1期
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