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<正> 由太空技术派生出来的先进工艺已经在工业中得到很好应用。同样,对于多年来在半导体工业中一种用于改变硅片电性质的离子渗透工艺也得到应用。工业上称这种方法为“搀杂质”。目前大约有2000座离子渗透装置在使用中。我们从对半导体搀杂质中得到的经验认为,这种方法可以用于涂覆凸模及拉深模,以大大延长它们的