【摘 要】
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本文介绍了磁控溅射镀膜工艺、磁控溅射设备、非反应溅射与反应溅射:反应溅射是一个非常复杂的过程。重点对反应溅射中的“直流氧化溅射”、“阳极消失效应”、“靶材中毒现
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本文介绍了磁控溅射镀膜工艺、磁控溅射设备、非反应溅射与反应溅射:反应溅射是一个非常复杂的过程。重点对反应溅射中的“直流氧化溅射”、“阳极消失效应”、“靶材中毒现象”、“磁滞效应现象”、“金属模式”、“过渡模式”、“反应模式”、“反应溅射磁滞效应特征曲线”进行分析。在生产过程中,掌握反应溅射工艺的特点,合理控制溅射过程中的工艺参数,准确判断溅射工艺中的异常现象,利用有效的手段进行调整,才能达到高效的溅射速率以及高质量的膜层性能,防止不良溅射现象的出现。
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