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提出了一种利用总积分散射（TIS）测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜，然后将基片的表面和体区分开考虑，通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度。进而求得基片的总散射和表面散射．最后计算得到了体散射。分别利用TIS和原子力显微镜（AFM）测量了3个样品上表面所镀Ag膜的均方根粗糙度．两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显，差值分别为0．08，0．11和0．09nm，表明TIS和AFM的测量结果相一致。利用该方法测得3块K9玻璃基片