【摘 要】
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对Al合金表面HCD法离子镀TiN膜进行了(透射电子显微镜)TEM观察分析。结果表明,镀膜表面由细小的TiN微晶组成,而其横截面上的TiN镀膜呈细柱状,间有微裂纹,镀膜与Al合金基体之
【机 构】
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船舶金属材料工艺研究所,船舶金属材料工艺研究所,
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对Al合金表面HCD法离子镀TiN膜进行了(透射电子显微镜)TEM观察分析。结果表明,镀膜表面由细小的TiN微晶组成,而其横截面上的TiN镀膜呈细柱状,间有微裂纹,镀膜与Al合金基体之间有—AlTi_2合金化合物过渡区域;同时,Al合金基体表面的原有择优取向发生变化,并与AlTi_3有一定的位向关系。
The transmission electron microscopy (TEM) TEM observation of HCD ion-plating TiN film on Al alloy surface was performed. The results show that the surface of the coating consists of fine TiN crystallites, while the cross section of the TiN coating is fine columnar with microcracks and the transition zone of -AlTi_2 alloy between the coating and the Al alloy matrix. At the same time, the Al alloy matrix The original preferred orientation of the surface changes and has a certain positional relationship with AlTi_3.
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