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研究了EDTA，NaKC4H4O6以及两者复配后，对Al2O3陶瓷表面化学镀铜沉积速率、微观形貌、表面粗糙度和镀液稳定性的影响。结果表明：EDTA为配位剂时，化学镀铜镀速为3．86μm／h，镀层表面粗糙度为0．39μm，镀层铜微粒形成团聚，均匀性较差；NaKC4H4O6配位剂时，镀速为4．55μm／h，表面粗糙度为0．46μm，镀层表面有直径达2～5μm的杂质微粒；EDTA和NaKC4H4O6复配使用时，镀速为4．17μm／h，表面粗糙度为0．35μm，铜镀层微观组织致密，铜微粒大小分布均匀，排列紧密，表