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期刊论文
PbS多晶薄膜均匀性的改善
PbS多晶薄膜均匀性的改善
来源 :萍乡高等专科学校学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kbxbx
【摘 要】
:
本文介绍了PbS薄膜常用化学沉淀的制备方法及原理,深入分析了基片沉淀过程中表面出现突出物现象的原因,薄膜基片电镜分析以及改善PbS基片表面均匀性的工艺方法。
【作 者】
:
辛锋
陈风金
【机 构】
:
萍乡高等专科学校机电系,中国空空导弹研究院
【出 处】
:
萍乡高等专科学校学报
【发表日期】
:
2008年3期
【关键词】
:
PBS
化学沉淀
均匀性
电镜分析
lead sulfide
chemical deposition
uniformity
SEM analyze
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本文介绍了PbS薄膜常用化学沉淀的制备方法及原理,深入分析了基片沉淀过程中表面出现突出物现象的原因,薄膜基片电镜分析以及改善PbS基片表面均匀性的工艺方法。
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