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采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为400℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长.
衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响
【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为400℃时制备的ZnO
【机 构】
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天津理工大学电子信息与通信工程学院,大庆石油学院数学科学与技术学院,天津理工大学自动化学院,大庆石油学院电子科学与技术学院
【出 处】
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天津理工大学学报
【发表日期】
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2008年4期
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