用IAD法制作的高密集型分波复合器滤光片的特性(英文)

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随着高密集型分波复合器需要的不断增加,在光纤通讯领域中,光学薄膜滤光片已经成为了一个很关键的光学元件。在高密集分波复合器中,我们用IAD方法制作了低损失、高稳定性的超窄带滤光片并在本文加以讨论。在湿度环境试验中,这种高堆积密度的光学薄膜显示了没有任何波漂。在温度环境试验中,它的热稳定性为0.0012nm /℃。在使用Ta2O5/SiO2,用于100GHz的滤色片的场合下,窄带滤色片的插入损失为0.34dB。在使用Nb2O5/SiO2,用于200GH2 的滤色片的场合下,插入损失为0.17dB,两者都显示了极好的分光光谱特性,甚至半宽为0.66nm 的情况下,它们的截面SEM 微结构显示了非晶结构,平坦的表面与界面。 With the increasing demand for high-density demultiplexers, optical thin film filters have become a critical optical element in the field of optical fiber communications. In a high-density demultiplexer, we have fabricated a low-loss, high-stability ultra-narrowband filter using the IAD method and are discussed in this article. In a humidity environment test, this high bulk density optical film showed no wave bleaching. Its thermal stability is 0.0012 nm / ° C in a temperature environment test. In the case of using Ta2O5 / SiO2 for a 100 GHz color filter, the insertion loss of the narrow-band color filter is 0.34 dB. In the case of using a Nb 2 O 5 / SiO 2 color filter for 200 GH 2, the insertion loss was 0.17 dB, both of which showed excellent spectral characteristics even in the case of a half width of 0.66 nm, and their cross sections SEM microstructures show an amorphous structure, a flat surface and an interface.
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