日光温室嵌膜式基质栽培对根区温度及番茄生长和产量的影响

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为研究垄嵌和沟嵌基质栽培以及覆膜方式对日光温室番茄根区温度和植株生长及产量的影响,试验设置梯形土垄栽培处理(SR),下底宽40 cm、高10 cm;起垄内嵌式基质栽培处理(SSC),下底宽40 cm、高10 cm,内嵌槽深20 cm(嵌入水平地面以下10 cm);内嵌槽全嵌入(20 cm)水平地面的土壤沟嵌栽培处理(SE),高度为零;土壤沟嵌上覆盖地膜栽培处理(SE+FM)。结果表明:8月29日—9月1日和10月25—28日两个时段最高与最低温度平均值差值均以SR处理最高,分别为5.95℃和1.36℃;均
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