【摘 要】
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用直流PCVD(等离子化学气相沉积)法沉积TiC、TiC/TiN双层复合膜和弥散型Ti(CN)涂层。试验表明在反应温度为550～600℃下得到的这些涂层,具有很高的显微硬度和良好的粘接力。沉
【机 构】
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青岛化工学院,青岛化工学院,青岛医学院,
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用直流PCVD(等离子化学气相沉积)法沉积TiC、TiC/TiN双层复合膜和弥散型Ti(CN)涂层。试验表明在反应温度为550～600℃下得到的这些涂层,具有很高的显微硬度和良好的粘接力。沉积的Ti(CN)涂层结构非常细密,是一种由TiC和TiN两种晶体组成的高度弥散混合物。
TiC, TiC / TiN double-layer composite films and dispersive Ti (CN) coatings were deposited by DC PCVD (plasma chemical vapor deposition). Tests showed that these coatings obtained at a reaction temperature of 550-600 ° C have high microhardness and good adhesion. The deposited Ti (CN) coating is very finely textured and is a highly dispersive mixture of two TiC and TiN crystals.
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