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高密度脉冲电流对Cu单晶体驻留滑移带的影响
高密度脉冲电流对Cu单晶体驻留滑移带的影响
来源 :金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lixiaobo59178
【摘 要】
:
对含驻留滑移带(PSB)的[123]取向的疲劳Cu单晶体,进行了高密度脉冲电流处理结果表明,高密度脉冲电流处理产生的热压应力改善了PSB-基体界面的应力集中状态,使驻留滑移带局部
【作 者】
:
肖素红
周亦胄
吴世丁
姚戈
李守新
周本濂
【机 构】
:
中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所材料疲劳与断裂国家重点实验室,中国科学院国际材料物理中心
【出 处】
:
金属学报
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
驻留滑移带
脉冲电流
热压应力
【基金项目】
:
国家自然科学基金;
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对含驻留滑移带(PSB)的[123]取向的疲劳Cu单晶体,进行了高密度脉冲电流处理结果表明,高密度脉冲电流处理产生的热压应力改善了PSB-基体界面的应力集中状态,使驻留滑移带局部消失.理论计算同时表明,高密度脉冲电流处理能提高Cu单晶疲劳寿命.
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