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制得的SnO<sub>x</sub>薄膜,用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析,显示为平均颗粒小于50nm的超微粒子薄膜。其中组成颗粒的晶粒大小平均为5.0～8.0nm。讨论了沉膜过程中基底温度、氧气分压、放电电压、蒸发源温度和反应蒸镀时间对薄膜结构和性质的影响。得到了制备SnO<sub>2</sub>相含量较高,且接近无色透明的超微粒子薄膜的最佳工艺条件。