JK—1型接近式光刻机曝光系统照度均匀性的测定

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在接近式光刻机的曝光系统中,关心两项指标:1、是在掩膜和硅片脱离接触规定的间隙下,能否平滑衍射效应的影响;2、能否具有高均匀的照明场。本工作是针对第二项指标进行的。 In proximity lithography exposure system, concerned about two indicators: 1, in the mask and the silicon out of contact with the provisions of the gap, the diffraction effect can be smoothed; 2, can have a high uniform illumination field . This work is for the second indicator.
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