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针对羰基合成反应装置中温度控制的特点，设计了温控器的硬件和软件部分：研究了与之相适应的控制算法，提出将模糊控制、PID控制及纯滞后控制算法有机地结合起来，使温控器在具有PID控制器动态跟踪品质和稳态精度的基础上，进一步实现控制的自适应性，发挥模糊控制鲁棒性强、动态响应好、上升时间快、超调小的特点。将研究的温控器应用于羰基合成反应过程的温控系统，取得了较好的控制效果。