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利用塔菲尔（Tafel）极化曲线测试方法和电化学阻抗（EIS）测试方法,研究了镍基合金925在饱和H2S盐水环境下腐蚀过程不同时段的电化学行为.结果表明：在饱和H2S盐水作用下,试验开始至第9d时腐蚀电位一直在降低,最低-418 mV,随后腐蚀电位逐渐升高,第17 d时腐蚀电位达-301 mV,而腐蚀电流在第5d之前降低至1.2 μA,第9d升高至2.57 μA,之后一直降低1.55 μA.电化学阻抗谱显示高频区的容抗弧越来越小,扩散特征增强,可能是形成的腐蚀钝化膜不够致密.综合分析认为试验进行5d后原有