大气压下冷等离子弧制备SiOx涂层超疏水表面

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hasiwang

【摘要】

：

采用冷等离子弧在大气压下以六甲基二硅氧烷为单体制备SiOx超疏水薄膜，研究不同工艺参数对薄膜的结构性能影响。通过傅里叶红外光谱（FTIR）对SiOx薄膜进行了结构分析、通过原子力

【作者】

：

周振陈强刘福平任兆杏

【机构】

：

北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室,合肥研飞电器科技有限公司

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2010年1期

【关键词】

：

冷等离子体弧超疏水表面大气压 SIOX薄膜 Cold plasma arc Superhydrophobic Atmospheric pressure

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

采用冷等离子弧在大气压下以六甲基二硅氧烷为单体制备SiOx超疏水薄膜，研究不同工艺参数对薄膜的结构性能影响。通过傅里叶红外光谱（FTIR）对SiOx薄膜进行了结构分析、通过原子力显微镜（AFM）和数字光学显微镜分析了SiOx薄膜的表面形貌、通过接触角仪测试了所沉积的SiOx薄膜亲／疏水性。在较为详细的研究冷等离子弧制备工艺参数对薄膜的影响后，如基片高度、单体输入量、沉积时间等，我们得到，在基片高度为10cm、单体输入量为90mL·min^-1、沉积时间为2min时，可以制备出接触角为160

其他文献

利用紫外光电子谱和第一性原理确定四苯基卟啉的结构与电子态

利用第一性原理确定了四苯基卟啉分子的结构模型,结果表明分子中的苯环与卟吩骨架的夹角为55°,且苯环的自由旋转导致卟吩骨架略微偏离平面形状。再利用紫外光电子谱（UPS）

期刊

四苯基卟啉第一性原理紫外光电子谱自洽场DV-Xα方法5 10 1520-meso-tetraphenylporphyrin First-prin

脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究

类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下

期刊

脉冲放电等离子体辅助化学气相沉积法类金刚石碳膜RAMAN光谱表面形貌Pulse discharge PECVD DLC Raman spectrosc

分子动力学模拟Gd原子在Cu低密勒表面的扩散过程

为了分析Gd吸附原子在Cu（001）、Cu（110）和Cu（111）表面的扩散机制，本文用分子动力学对该扩散过程进行模拟。模拟结果表明在Cu（001）和Cu（111）表面，Gd原子通过跳跃机制扩散；在Cu（110）表面，在[110

期刊