【摘 要】
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利用射频磁控溅射法在有机薄膜衬底和7059玻璃衬底上制备出了具有良好附着性的低电阻率的ZnO:Al透明导电膜.研究了薄膜的结构和光电特性与衬底温度的关系,薄膜为多晶纤锌矿结
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利用射频磁控溅射法在有机薄膜衬底和7059玻璃衬底上制备出了具有良好附着性的低电阻率的ZnO:Al透明导电膜.研究了薄膜的结构和光电特性与衬底温度的关系,薄膜为多晶纤锌矿结构,垂直于衬底的c轴具有[002]方向的择优取向,薄膜的最低电阻率分别为1.01×10-3Ω·cm和8.48×10-4Ω·cm,在可见光区的平均透过率分别达到了72%和85%.并研究了溅射偏压对有机衬底ZnO:Al薄膜结构及光电特性影响,最佳负偏压为60 V.
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