SiO2和HfO2薄膜光学性能的椭偏光谱测量

来源 :光学与光电技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xzhtqx

【摘要】

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结合XRD和原子力显微镜等方法，利用椭圆偏振光谱仪测试了单层SiO2薄膜（K9基片）和单层HfO2薄膜（K9基片）的椭偏参数，并用Sellmeier模型和Cauchy模型对两种薄膜进行拟合，获得了SiO2薄膜

【作者】

：

吴倩陈松林马平王震罗晋潘峰

【机构】

：

成都精密光学工程研究中心

【出处】

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光学与光电技术

【发表日期】

：

2010年2期

【关键词】

：

薄膜光学参数椭偏测量光谱 thin film optical properties spectroscopic ellipsometry spectrum

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结合XRD和原子力显微镜等方法，利用椭圆偏振光谱仪测试了单层SiO2薄膜（K9基片）和单层HfO2薄膜（K9基片）的椭偏参数，并用Sellmeier模型和Cauchy模型对两种薄膜进行拟合，获得了SiO2薄膜和HfO2薄膜在300-800nm波段内的色散关系。用X射线衍射仪确定薄膜结构，并用原子力显微镜观察薄膜的微观形貌，分析表明：SiO2薄膜晶相结构呈现无定型结构，HfO2薄膜的晶相结构呈现单斜相结构；薄膜光学常数的大小和薄膜的表面形貌有关；Sellmeier和Cauchy模型较好地描述了该波段内薄膜的

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